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由三甲基二环[2.2.2]辛烷二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体及其合成方法.pdf

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本发明公开了由三甲基二环[2.2.2]辛烷二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体及其合成方法,涉及光刻胶树脂领域,树脂单体的结构式如下所示:其中R1为饱和烷烃或者环烷烃,R2为氢或者甲基,其合成方法为:在惰性气体保护下,1,3,3‑三甲基二环[2.2.2]辛烷‑2,5‑二酮(Ⅰ)与烷基格氏试剂或者环烷基格氏试剂反应,反应结束后加水淬灭,后处理纯化得到中间体(Ⅱ);在碱性条件下,中间体(Ⅱ)与丙烯酰氯或者甲基丙烯酰氯反应,后处理纯化后得到树脂单体(Ⅲ)。本发明提供的树脂单体与其它树脂单体聚合形成的聚合树

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112390718 A (43)申请公布日 2021.02.23 (21)申请号 202011307086.4 (22)申请日 2020.11.20 (71)申请人 徐州博康信息化学品有限公司

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