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本发明公开了一种基于核孔膜的固态电解质隔膜及其制备方法。本发明采用聚酰亚胺重离子径迹刻蚀多孔膜作为基膜,聚酰亚胺耐高温达400℃,可在‑200~300℃的温度范围内稳定工作,收缩性极低,具有优异的力学性能和绝缘性。聚酰亚胺薄膜的优良性能,保证了制备的电解质隔膜的高的力学性能和热稳定性。重离子径迹刻蚀技术制备的膜(核孔膜)具有孔径一致,大小可控,孔密度方便可调的优点。聚酰亚胺重离子径迹刻蚀膜的纳米孔中填充的高分子链电解质,定向排列的纳米孔的空间限域效应使高分子链沿着纳米孔方向伸展,降低了聚合物的玻
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112421184 B
(45)授权公告日 2023.04.07
(21)申请号 202011292059.4 H01M 50/414 (2021.01)
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