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本申请提供一种基板支承单元及具有该基板支承单元的基板处理装置，该基板支承单元通过在工艺腔室内构成下部电极的中央电极和边缘电极的阻抗变化来控制基板的中央区域和边缘区域的梯度。基板处理装置包括：壳体；喷头单元，其设置在壳体的内部上侧，并且将用于处理基板的工艺气体引入壳体的内部；以及支承单元，其设置在壳体的内部下侧，并且具有用于放置基板的静电卡盘，其中，静电卡盘包括：介电板，其构成主体；第一加热器，其对介电板的第一区域进行加热；以及第二加热器，其对介电板的第二区域进行加热，通过调节分别施加到第一加热器
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112420550 A
(43)申请公布日 2021.02.26
(21)申请号 202010684893.1
(22)申请日 2020.07.16
(30)优先权数据
10-2019-0
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