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本发明涉及磷化铟晶体制备技术领域,具体涉及一种磷化铟晶体合成和生长工艺及装置。本发明在熔体坩埚的外部设置的电磁约束感应器,约束熔体横向截面尺寸和形状,使熔体的侧面与坩埚的内壁脱离接触或部分脱离接触。在坩埚的上部设置的电磁加热感应器,加热磷化铟晶体,控制晶体中的温度梯度。由于熔体与石英坩埚壁间形成间隔,减少了熔体与坩埚的接触面积,有利于降低坩埚中杂质对磷化铟晶体的污染;同时由于增加了熔体与磷蒸汽的接触面积,使得磷原子可以更有效地向熔体内部扩散,有利于提高晶体合成和生长速度,而控制熔体横向截面尺寸及
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112410883 A
(43)申请公布日 2021.02.26
(21)申请号 202011278512.6
(22)申请日 2020.11.16
(71)申请人 宇泽半导体(云南)有限公司
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