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本发明公开了一种用于高纯度硅晶体制备的衡压反应装置，包括壳体，所述壳体内开设有反应室，所述反应室内滑动设置有滑板，所述滑板的下壁上对称开设有两个吸收槽，两个所述吸收槽内均固定设置有吸收盒，且两个所述吸收槽的侧壁上均开设有收纳槽，两个所述收纳槽内均滑动设置有密封板，两个所述密封板分别与两个吸收槽的开口对应设置。本发明能够在制取高纯度硅晶体的过程中，在气压达到最大值时，自动停止原料的输入，并快速对内部气体进行吸收，吸收完毕后再次自动开启原料的输入，不需要人工控制，保证反应的衡压进行，避免出现爆炸的危
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112391677 B
(45)授权公告日 2021.12.03
(21)申请号 202011259193.4 C01B 33/03 (2006.01)
(22)申请日
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