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本发明公开一种SiC‑Hf(Ta)C复合涂层的制备方法、复合涂层及石墨基座,该制备方法包括以下步骤:石墨基体表面预处理;将Si粉和SiO2粉末混合,放入所述化学气相沉积炉中,使化学气相沉积炉中充满氩气;升温至1800‑2000℃,保温进行反应,保持炉压5‑10kPa,反应时间为2‑4h;降温至1500‑1700℃,通入四氯化铪气体、五氯化钽气体、甲烷、氢气和稀释气体氩气,进行CVD沉积,沉积时间为2‑8h;反应完成后,在充满氩气氛围中降温至室温,取出产品;本发明的方法所制备的复合涂层,与石墨基体
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112391606 B
(45)授权公告日 2022.01.14
(21)申请号 202011270485.8 (51)Int.Cl.
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