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本申请提供了一种横向双扩散晶体及其制造方法,包括:衬底和位于衬底上部的漂移区;位于衬底表面上的多个场氧化层;位于漂移区上部相互隔开的第一N型阱区和P型阱区,以及与P型阱区相邻的第二N型阱区;位于衬底表面上的且覆盖部分P型阱区的第一栅氧层、第一多晶硅层、第二栅氧层和第二多晶硅层;分别位于第一N型阱区、P型阱区和第二N型阱区中的第一N+区域、第二N+区域和第三N+区域;以及位于P型阱区中的P+区域和第四N+区域,第四N+区域位于第二多晶硅层两侧,且位于P+区域和第三N+区域之间。该横向双扩散晶体管在
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112397507 B
(45)授权公告日 2022.05.10
(21)申请号 202011275829.4 H01L 27/098 (2006.01)
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