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用于处理基板的装置和方法.pdfVIP

用于处理基板的装置和方法.pdf

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    本发明涉及用于处理基板的装置和方法。一种用于处理基板的装置包括：工艺腔室，在所述工艺腔室中具有工艺空间；支承单元，其在所述工艺空间中支承所述基板；加热构件，其加热支承于所述支承单元上的所述基板；和排放单元，其抽排所述工艺空间。所述排放单元包括排放管和热量保持单元，所述热量保持单元具有保持从所述工艺空间释放的热量的保持空间。所述保持空间围绕所述排放管中邻近所述工艺腔室的邻近区域。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112420554 A (43)申请公布日 2021.02.26 (21)申请号 202010860335.6 (22)申请日 2020.08.24 (30)优先权数据 10-2019-0

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