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本发明涉及用于在移动的基底S上连续沉积由金属或金属合金形成的涂层的真空沉积设备1,所述设备包括:蒸发坩埚4,所述蒸发坩埚4适合于供给金属或金属合金蒸气并且包括蒸发管7;沉积室2,所述沉积室2适合于使基底S沿着给定路径P移动通过;和蒸气喷射涂覆机3,所述蒸气喷射涂覆机3将蒸发管与沉积室连接,其中所述蒸气喷射涂覆机还包括再分配室31和蒸气排放孔32,所述再分配室31包括定位在所述再分配室内的至少一个再加热装置33,所述蒸气排放孔32包括底部开口,所述底部开口将蒸气排放孔与再分配室连接;顶部开口,经由
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112400034 A
(43)申请公布日 2021.02.23
(21)申请号 201980039758.7 (74)专利代理机构 北京允天律师事务所 11697
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