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等离子体处理装置具备对样品进行等离子体处理的处理室、提供用于使等离子体生成的第一高频电力的第一高频电源、载置所述样品的样品台和对所述样品台提供第二高频电力的第二高频电源，在该等离子体处理装置中进一步具备控制装置，其在基于从第一步骤的气体即第一气体向第二步骤的气体即第二气体切换时产生的等离子体阻抗的变化来控制所述第二高频电源以使得所述第二高频电力从所述第一步骤的所述第二高频电力的值向所述第二步骤的所述第二高频电力的值变化的情况下，使用第一时间和第二时间来控制所述第一气体的提供时间，以使所述第一步骤
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112424911 A
(43)申请公布日
2021.02.26
(21)申请号 20198
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