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提供了用于对工件进行硬掩模(例如，掺杂硼的非晶碳硬掩模)去除工艺的装置、系统和方法。在一个示例实施中，方法包括在处理腔室中，将工件支撑在工件支撑件上。方法可包括使用等离子体源在等离子体腔室中由工艺气体生成等离子体。等离子体腔室可通过隔栅与处理腔室分开。方法可包括将工件暴露于一种或多种在等离子体中生成的自由基以对工件进行等离子体去胶工艺以从工件至少局部去除硬掩模层。方法可包括在等离子体去胶工艺期间，将工件暴露于作为钝化剂的水蒸气。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112424913 A
(43)申请公布日 2021.02.26
(21)申请号 201980044843.2 申请人 北京屹唐半导体科技有限公司
(22)申请日 201
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