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本发明公开了一种低蚀刻率显影液组合物及其制备方法，包括烷基萘磺酸盐、非离子表面活性剂、碱金属盐、高纯水、烷基萘磺酸盐0.2‑10％、非离子表面活性剂0.01‑10％、碱金属盐0.1‑10％以及高纯水70‑96.9％。本发明的光刻胶显影液具有较低的基底材料蚀刻率，显影过程不会造成基底腐蚀，同时该显影液还具有分散稳定性高、泡沫少、操作窗口大、显影图案清晰、后光刻胶无残留无基底腐蚀等特点。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112394622 A
(43)申请公布日 2021.02.23
(21)申请号 202011027026.7
(22)申请日 2020.09.26
(71)申请人 芯越微电子材料（嘉兴）有限公司
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