超声波清洗装置、半导体设备及其控制方法.pdfVIP

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2023-05-29 发布于四川
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本发明提供了一种超声波清洗装置、半导体设备及其控制方法，涉及半导体加工技术领域，其中，超声波清洗装置包括：超声波发生模块、检测模块和多个并联的超声波换能模块；超声波发生模块分别与供电电源和多个超声波换能模块连接，用于向每个超声波换能模块提供驱动信号；超声波换能模块用于在驱动信号的驱动下发射超声波；检测模块与超声波发生模块连接，用于检测流过超声波发生模块的工作电流，并根据工作电流判断是否存在异常的超声波换能模块；若是，则发出报警信号，报警信号用于提示存在异常的超声波换能模块。本发明可以避免出现由于

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112387695 A (43)申请公布日 2021.02.23 (21)申请号 202011094695.6 (22)申请日 2020.10.14 (71)申请人北京北方华创微电子装备有限公司

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