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本发明涉及一种粉料平整与孔隙率控制的装置与方法,属于坩埚辅助设备技术领域。为解决现有粉料压平方法无法控制孔隙率的问题,本发明提供了一种用于坩埚中粉料平整与孔隙率控制的装置,包括:固定结构、滑动杆、固定环、压盘和配重块,固定结构包括圆环和固定臂,固定臂环形阵列安装在圆环的外侧,滑动杆贯穿于固定结构的圆环内,滑动杆的底部与压盘连接,滑动杆的顶部与配重块连接,滑动杆上加工有刻度,固定环嵌套在滑动杆外。本发明根据坩埚的尺寸及粉料的情况计算下压长度,再通过调整固定环在滑动杆上的位置,确定压盘的下压长度,通
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112408004 A
(43)申请公布日 2021.02.26
(21)申请号 202011278313.5
(22)申请日 2020.11.16
(71)申请人 哈尔滨科友半导体产业装备与技术
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