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本发明公开了一种高效且低损的机场道面胶黑处理方法,包括步骤1、向机场跑道胶黑处释放低温媒介;步骤2、通过低温媒介作用,使得胶黑温度降低,脱离高弹态,达到低温状态;步骤3、通过机械力清除方法处理低温状态下的胶黑;步骤4、回收清除掉的胶黑。本发明源于对相关技术缺陷的认识,以及对胶黑的结构、材料性质及形成过程的思考,通过引入低温媒介的作用,提高了除胶速度,降低了孔隙及刻槽中胶黑的清除难度,同时降低了清除胶黑时对道面的损伤,从而更好达到了机场除胶的目的:恢复道面抗滑性能。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112431157 B
(45)授权公告日 2022.08.05
(21)申请号 202011292525.9 E01H 1/10 (2006.01)
(22)申请日 2020.11.
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