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本申请公开了薄膜沉积装置及晶舟组件。该晶舟组件包括：堆叠的多个横隔板；以及将所述多个横隔板连接在一起的侧壁，所述侧壁与每个所述横隔板的一部分周边区域相连接，使得相邻的所述横隔板与所述侧壁共同形成半包围空间，其中，相邻横隔板之间的所述半包围空间用于容纳至少一个晶片，所述侧壁上形成有多个进气端，分别向所述半包围空间供给气体。该晶舟组件采用进气端附近的隔离结构以消除晶片加载效应的影响，以改善不同层面的晶片的膜厚一致性。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112466794 B
(45)授权公告日 2021.12.03
(21)申请号 202011325744.2 C23C 16/455 (2006.01)
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