一种深台面型光电子器件及其电极光刻制备方法.pdfVIP

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2023-05-30 发布于四川
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一种深台面型光电子器件及其电极光刻制备方法.pdf

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本申请涉及一种深台面型光电子器件及其电极光刻制备方法，方法包括步骤：加工形成深台面刻蚀器件；在深台面刻蚀器件上匀涂第一层反转光刻胶，并进行第一次坚膜烘烤，使第一层反转光刻胶固化；在第一层反转光刻胶上匀涂第二层反转光刻胶，并进行第二次坚膜烘烤，以使所有光刻胶的厚度覆盖吸收区的侧壁；依次完成掩膜曝光、反转烘烤、泛曝光及显影工艺，形成碗状结构的光刻胶；依次进行金属生长沉积、金属lift‑off，得到电极光刻后的深台面型光电子器件。本申请提供的深台面型光电子器件的电极光刻制备方法，有效解决了因侧壁光刻胶

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112466994 A (43)申请公布日 2021.03.09 (21)申请号 202011302059.8 G03F 1/80 (2012.01) (22)申请日 20

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