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2023-05-31 发布于四川
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一种TC-SAW的金属电极制造方法.pdf

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本发明提供一种TC‑SAW的金属电极制造方法，所述方法包括：于压电材料衬底上沉积第一IDT金属层；形成第一正性光刻胶层；形成一次IDT图形；对所述第一IDT金属层进行刻蚀，以暴露出部分所述压电材料衬底，并形成与所述一次IDT图形相应的指状电极；沉积第二IDT金属层；去除第一正性光刻胶层以及在第一正性光刻胶层上沉积的所述第二IDT金属层，以露出所述第一IDT金属层；在所述第一IDT金属层和所述第二IDT金属层上形成第一介质层；形成第二正性光刻胶层；形成二次IDT图形；剥离部分所述第一介质层以及部分

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112491380 A (43)申请公布日 2021.03.12 (21)申请号 202011320104.2 (22)申请日 2020.11.23 (71)申请人广东广纳芯科技有限公司

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