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描述了蚀刻膜堆叠以形成具有均匀宽度的间隙的方法。通过硬掩模蚀刻膜堆叠。在间隙中沉积保形的衬垫。衬垫的底部被移除。相对于衬垫选择性地蚀刻膜堆叠。移除衬垫。方法可被重复到预定深度。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112514051 A
(43)申请公布日 2021.03.16
(21)申请号 201980049850.1 H ·S ·怀特塞尔 H ·王
(2
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