外差一维光栅位移测量装置.pdfVIP

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本发明提供一种外差一维光栅位移测量装置,采用上下对称的结构分布,消除测量装置在光程上所引入影响;利用双频激光器发出的两束正交的线偏振光,其中频率为f1的‑1级衍射光和频率为f2的+1级衍射光干涉形成‑2Δf的多普勒频移,频率为f1的+1级衍射光和频率为f2的‑1级衍射光干涉形成2Δf的多普勒频移,信号处理系统对信号进行差分处理,可实现单次衍射的四倍光学细分。本发明可实现单次衍射的四倍光学细分,也可采用直角棱镜或角锥棱镜实现八倍的光学细分,同时利用空间上结构微小差异来消除杂光影响,实现位移测量装置

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112504131 B (45)授权公告日 2022.01.28 (21)申请号 202011287160.0 (51)Int.Cl.

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