用于处理基板的设备和用于将处理液分配到基板上的方法.pdfVIP

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2023-06-01 发布于四川
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用于处理基板的设备和用于将处理液分配到基板上的方法.pdf

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本发明构思涉及一种用于处理基板的设备。所述设备包括基板支撑单元，其支撑所述基板；喷嘴单元，其将处理液分配到支撑在所述基板支撑单元上的所述基板上；以及液体供应单元，其将所述处理液供应到所述喷嘴单元。所述液体供应单元包括主供应线，其连接到所述喷嘴单元并将所述处理液供应到所述喷嘴单元；第一DIW供应线，其连接到所述主供应线并在第一温度下供应DIW；第二DIW供应线，其连接到所述主供应线并在高于所述第一温度的第二温度下供应DIW；以及化学制品供应线，其连接到所述主供应线并供应化学制品。所述设备还包括控制

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112563161 A (43)申请公布日 2021.03.26 (21)申请号 202011023829.5 (22)申请日 2020.09.25 (30)优先权数据 10-2019-0

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