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本发明公开了一种高密度铁电存储器及其制备方法和应用，属于半导体存储器领域。该存储器由多个存储单元排成阵列，且存储单元阵列两侧由实质上正交的字线和位线相连，本发明的存储单元采用顶电极、阻变介质层、中间金属层、铁电介质层和底电极叠加结构，在电学上等同于一个铁电电容与一个阻变选择器串联；通过调控存储单元RC延迟来降低未选中单元中铁电电容的分压，使其扰动降低；并且铁电电容容值稳定，可以有效通过RC调控降低扰动电压的影响。综上所述，本发明在没有增加额外面积开销的情况下，提升了存储器的存储窗口，降低了误码率
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116193867 A
(43)申请公布日 2023.05.30
(21)申请号 202310242051.4
(22)申请日 2023.03.14
(71)申请人 北京超弦存储器研
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