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上述图形转移方法,包括在已形成目标层的衬底表面依次形成掩膜层和光刻胶层,通过光刻等工艺制程,将图形从光罩依次转移到光刻胶层、掩膜层,并最终形成目标层图形。在本发明中,使用与碳源气体同时通入氮源气体或硼源气体中至少一种的技术方案,形成作为掩膜层的掺杂碳薄膜,所述掩膜层不仅折射率可调,而且还表现出优异的稳定性和抗腐蚀性。使用前述掩膜层实现了无需抗反射涂层的图形转移方法,该图形转移方法具有工艺简单、操作性强和制造速度快的优势,大大简化了传统图形转移方法的工艺制程。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112563121 A
(43)申请公布日
2021.03.26
(21)申请号 20191
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