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2023-06-01 发布于四川
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一种基于原子层沉积的吸收膜及其制作方法.pdf

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本发明公开了一种基于原子层沉积的吸收膜，由基底和其上的多层吸收膜系组成，所述多层吸收膜系由吸收膜层和介质膜层交替组成，吸收膜层为最内层，靠近基底设置；介质膜层为最外层；所述多层吸收膜系由原子层沉积方法得到。本发明巧妙结合了吸收膜的设计制备和原子层沉积技术的优势，克服了传统的物理气相沉积方法无法满足大曲率元件沉积薄膜的均匀性、覆盖率的基本要求的困难。本发明通过原子层沉积技术制备的吸收膜，在设计波段内吸收率可达99％以上，可在高深宽比的复杂光学表面以及大曲率光学元件等特殊领域具有重要应用，有望在虚拟

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112526663 A (43)申请公布日 2021.03.19 (21)申请号 202011214378.3 (22)申请日 2020.11.04 (71)申请人浙江

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