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本发明公开了一种硅纳米材料的表面钝化方法及用途,属于纳米材料技术领域,具体的,方法包括以下步骤:(1)对无支撑的硅纳米材料施加主动氧化程序,使其表面形成致密氧化层;再利用高浓度氢氟酸完全刻蚀掉表面氧化层,得到氢封端的硅纳米材料;(2)隔绝水氧条件下,利用烯烃与氢封端的硅纳米材料进行硅烷化反应,得到的粗产物进一步清洗纯化后,得到表面碳链封端的硅纳米材料。本发明方法较传统方法增加了前置的主动氧化程序,在硅纳米材料表面构建致密的氧化薄层,能够制备得到具有更高碳链覆盖率,更低表面悬挂键数量,同时荧光量子
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116177550 A
(43)申请公布日 2023.05.30
(21)申请号 202310222488.1
(22)申请日 2023.03.09
(71)申请人 浙江大学
地址 310058
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