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2023-06-01 发布于四川
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溅射装置及溅射装置控制方法.pdf

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涉及溅射装置及溅射装置控制方法，该溅射装置包括：支撑部，用于支撑基板；靶，以水平方向为基准，从支撑部隔开配置；中间磁铁，调节中间区域的等离子体强度，中间区域配置于基板与靶之间；上部磁铁，调节上部区域的等离子体强度，上部区域配置于中间区域的上侧；下部磁铁，调节下部区域的等离子体强度，下部区域配置于中间区域的下侧；中间获取模块，测量并获取中间区域的中间等离子体值；上部获取模块，测量并获取上部区域的上部等离子体值；下部获取模块，测量并获取下部区域的下部等离子体值；中间移动机构，将中间磁铁沿水平方向移动

(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112553583 B (45)授权公告日 2023.03.28 (21)申请号 201910912602.7 (56)对比文件 (22)申请日 2019.09.25

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