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本发明提供一种基板处理装置、半导体装置的制造方法及存储介质，使在旋转型装置中形成于基板的膜特性的均匀性提高。作为向基板供给处理气体来进行处理的基板处理装置，具有：处理容器，其设有多个对基板进行处理的处理区域；旋转台，其设置于处理容器内，并使所载置的基板在处理容器内以基板外的某一点为中心进行旋转从而依次通过多个处理区域；以及气体供给喷嘴，其设置于多个处理区域内的至少任一个且具有往路部和复路部，该往路部从处理容器的壁侧朝向旋转台的中心侧延伸，该复路部经由弯曲部与往路部连通并从旋转台的中心侧朝向处理容
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112563156 A
(43)申请公布日
2021.03.26
(21)申请号 20201
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