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本发明涉及一种用于在带状的连续的基底(2)上沉积石墨烯、碳纳米管或其它尤其含碳的层的设备,所述基底(2)通过入口(12)进入反应器壳体(1)并且通过出口(12’)离开反应器壳体(1),所述基底(2)沿传输方向从入口(12)经过布置在所述反应器壳体(1)中的、由控温装置(8)调温的处理区(5)被传输到出口(12’)。按照本发明,在所述处理区(5)与入口(12)之间和/或在所述处理区(5)与出口(12)之间布置有阻隔热传递的器件(14,15,16,17),通过所述阻隔热传递的器件减小从所述处理区(
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112567068 B
(45)授权公告日 2023.03.28
(21)申请号 201980040329.1 (73)专利权人 艾克斯特朗欧洲公司
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