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描述了使用过渡金属掺杂的GST操作存储单元的方法、系统和装置。如本文所讨论的,包括锗(Ge)、锑(Sb)、碲(Te)以及钇(Y)和钪(Sc)中的至少一种的组合物可以用作存储单元中的存储元件。例如,存储元件可以包括组合物,所述组合物具有:锗,量为组合物的15至35原子百分比(at.%);锑,量小于或等于组合物的50at.%;碲,量大于或等于组合物的40at.%;以及Y和Sc中的至少一种,量为组合物的0.15at.%至10at.%。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112567543 B
(45)授权公告日 2022.06.07
(21)申请号 201980053170.7 (72)发明人 P ·凡蒂尼 M ·贝尔纳斯科尼
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