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本发明公开了一种基于波导光栅的PDMS柔性力敏传感器及制备方法,包括PDMS波导、波导光栅区,根据滤波波长‑光栅参数‑受力的关系实现力敏检测。用丙酮、酒精和去离子水清洗硅片并烘干;在硅片表面涂覆光刻胶并烘干;对硅片进行掩膜光刻和显影,将掩膜版的图形转移至光刻胶膜上;进行硅的干法刻蚀并去除光刻胶膜,得到硅模板;根据柔性需求,配比不同比例的PDMS液和固化液得到混合液,控制PDMS液和固化液配比在5:1~15:1之间;充分搅拌并在真空下完全去除混合液中的空气;将硅模板放在混合液表面,使硅模板的表面与
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112540430 B
(45)授权公告日 2022.05.17
(21)申请号 202011560465.4 G02B 6/124 (2006.01)
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