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本发明公开了一种粉体材料的表面处理装置，包括真空腔体以及设置在真空腔体内的网状金属围栏，所述网状金属围栏内设有转动装置以及放置在转动装置上的弧形样品台，粉体材料置于弧形样品台中；所述网状金属围栏顶部设有网罩，网罩罩在网状金属围栏上；还包括设置在真空腔体内侧壁上的加热装置、设置在网罩正上方的风机以及用于提供电场的电源。本发明还公开了采用上述表面处理装置对粉体材料进行等离子体表面改性的方法。本发明处理装置能够实现金属/非金属/金属化合物/非金属化合物溅射靶材在粉体材料表面的有效沉积与包覆。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112538606 B
(45)授权公告日 2022.03.29
(21)申请号 202011244227.2 (56)对比文件
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