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本发明公开了一种晶片边缘抛光机边抛液自动供液和PH自动调整系统，包括PLC控制器、计量泵和PH计，所述于PLC控制器电学连通供液阀，所述供液阀插入边抛液储存箱内部，所述边抛液储存箱内接入PH计，所述PH计受控于PLC控制器，所述PLC控制器电学连接计量泵，所述计量泵一端连通调节液储存箱，另一端连通边抛液储存箱，通过一体化控制，协调作业，可实现边抛液少液后自动补液，边抛液PH值低于设定值后自动调整PH值至允许范围，全程系统自动控制，无需人员干预，降低人员工作强度，减少人员误操作频率，增加PH值的稳
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112536669 A
(43)申请公布日 2021.03.23
(21)申请号 202011521944.5
(22)申请日 2020.12.21
(71)申请人 中环领先半导体材料有限公司
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