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2023-06-01 发布于四川
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基片处理控制方法、基片处理装置和存储介质.pdf

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本发明提供根据基片处理的状态来适当地控制各种参数的基片处理控制方法、基片处理装置和存储介质。具有包含多个第一水准单元的第一要素和包含的多个第二水准单元的第二要素的基片处理装置中的基片处理控制方法，其包括：获取步骤，其对每个基片获取包含确定进行了第一处理的第一水准单元的信息、确定进行了第二处理的第二水准单元的信息和关于基片的特性的特征量的信息的数据集；计算步骤，其基于数据集，计算包含特征量的预期值、相对于预期值的第一水准单元的水准单元偏差和相对于预期值的第二水准单元的水准单元偏差的信息；以及修正步

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112558417 A (43)申请公布日 2021.03.26 (21)申请号 202010965656.2 (22)申请日 2020.09.15 (30)优先权数据 2019-1740

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