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本申请公开了一种光源装置、光源装置的控制方法和投影仪，属于投影技术领域。所述光源装置包括荧光轮及两个激发光源；所述荧光轮包括两个荧光激发区域，所述两个荧光激发区域分别位于所述荧光轮上不同半径的两个环形区域中；所述两个激发光源所发出的激发光分别照射在所述两个荧光激发区域其中之一和另一，并分别激发对应的荧光区域发出对应的激发光。本申请的激发光源照射在荧光激发区域的功率密度可以较低，进而激发光源发出的激发光在荧光激发区域的照射区域的温度较低，荧光的激发效率较高，解决了相关技术中荧光激发效率较低的问题。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112578616 A
(43)申请公布日
2021.03.30
(21)申请号 20191
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