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本发明公开了一种真空熔炼制备磁控溅射靶的冷却装置，包括：冷却水槽，其内部平行间隔设有两个隔层，两个隔层密封卡设在冷却水槽的相对两侧壁之间，以将冷却水槽分隔为位于两侧的冷水腔和位于中间的冷却腔，冷水腔设有进水口和出水口，每个隔层包括依次贴附设置的钢板、保温板、耐高温板，其中，钢板与冷却腔接触，耐高温板与冷水腔接触；一对模具，一个模具贴附设置在一个隔层上方，每个模具均具有一个缺口，一对模具对合后的缺口形成一个漏液口。本发明通过一对模具使得浇铸口的毛刺等缺陷延伸到漏液口处，确保获得的靶材成品不会残留因
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112570691 B
(45)授权公告日 2021.12.07
(21)申请号 201910930900.9 (56)对比文件
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