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气相生长装置.pdfVIP

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    实施方式的气相生长装置具备：反应室；第一气体室，设置于反应室之上，被导入第一工艺气体；以及多个第一气体流路，从第一气体室向反应室供给第一工艺气体，多个第一气体流路中的至少1个第一气体流路具有第一区域和位于第一区域与反应室之间的第二区域，第一区域具有与第一工艺气体的流动方向垂直的面中的第一开口截面积和上述方向的第一长度，第二区域具有与上述方向垂直的面中的第二开口截面积和上述方向的第二长度，第一开口截面积比第二开口截面积小，第一长度为第二长度以下。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112640045 A (43)申请公布日 2021.04.09 (21)申请号 201980055815.0 (74)专利代理机构 永新专利商标代理有限公司

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