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洗净装置.pdfVIP

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    本发明提供一种洗净装置，可抑制真空状态下的静电吸附力的减少，并去除半导体制造装置的真空处理室内的异物。所述洗净装置包括：异物吸附部4，在绝缘体的内部设置有包含一对电极的吸附电极3；以及吸附控制部5，将控制开关接通来使所述吸附电极带电，使绝缘体的表面显现静电吸附力而可吸附异物；且所述吸附控制部5的控制开关是可进行外部操作的远程操作型的开关，针对在真空状态下被封闭的真空封闭空间内的所述洗净装置，将控制开关接通，由此可通过在真空状态下显现的静电吸附力来去除真空处理室内的异物。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112640042 A (43)申请公布日 2021.04.09 (21)申请号 201980055806.1 (74)专利代理机构 北京同立钧成知识产权代理

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