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用于填充高孔隙率多孔介质开口通道的流场分析方法及系统.pdfVIP

用于填充高孔隙率多孔介质开口通道的流场分析方法及系统.pdf

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    本发明公开了一种用于填充高孔隙率多孔介质开口通道的流场分析方法及系统，所述流场分析方法包括以下步骤：获取填充高孔隙率多孔介质开口通道的孔隙率和无量纲比表面积；获取的孔隙率和无量纲比表面积在预设适用范围内时，计算获得等效阻力修正系数；将获得的等效阻力修正系数代入多孔介质阻力计算方程，计算获得多孔介质阻力；基于获得的多孔介质阻力，使用格子玻尔兹曼方法在表征体元尺度上计算流体在填充高孔隙率多孔介质的开口通道内的流场。本发明的方法具有精度高和速度快的优点。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112613247 A (43)申请公布日 2021.04.06 (21)申请号 202011567834.2 (22)申请日 2020.12.25 (71)申请人 西安交通大学 地址

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