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公开了用处于大气压力，并处于低温并具有高浓度的反应性物质的氩气和其他分子气体进行操作的等离子体应用。等离子体设备以及容纳所述等离子体设备和衬底的围护结构基本上不含颗粒，所以所述衬底在处理期间不会被颗粒污染。等离子体通过在不存在流光或微弧的情况下进行电容性放电来产生。技术可被采用来将有机材料从衬底移除，从而清洁所述衬底；使材料表面活化，从而增强所述材料与第二材料之间的键合；将材料薄膜从衬底蚀刻掉；并且将薄膜和涂层沉积到衬底上；所有这些过程都是在所述衬底的所述表面不被大量颗粒污染的情况下实施。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112639195 A
(43)申请公布日 2021.04.09
(21)申请号 201980057606.X (74)专利代理机构 北京市铸成律师事务所
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