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一种加快高质量釉层形成的烘炉工艺.pdfVIP

一种加快高质量釉层形成的烘炉工艺.pdf

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    本发明公开了一种加快高质量釉层形成的烘炉工艺,包括以下步骤:①第一炉的烘炉准备：先在坩埚的底部加入8～10kg玻璃,再在坩埚内加满生铁；②第一炉的烘炉过程:通过第一炉烘炉可在坩埚的内表面形成一层釉层；③第二、三炉的烘炉准备：先在坩埚的底部加入4～5kg玻璃,再在坩埚内加满生铁；④第二、三炉烘炉的过程：烘炉至炉内温度由1200℃升至1300℃以上达到出铁水温度，升温时间控制在0.5h，降低功率，再出铁水；⑤后续炉次的熔炼：先在预留有15～20%铁水的坩埚内加满回炉铁,然后再按照预定的冶炼工艺进行后

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112683056 B (45)授权公告日 2022.08.02 (21)申请号 202011401514.X F27B 14/10 (2006.01)

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