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消除反射激光对半导体激光器恒功率控制影响的方法和系统.pdfVIP

消除反射激光对半导体激光器恒功率控制影响的方法和系统.pdf

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    本发明公开一种消除反射激光对半导体激光器恒功率控制影响的方法和系统。首先获取利用斜坡发生器的恒流激光器光路上对光电传感器校验第二功率‑光电传感器测量值映射表，然后再利用斜坡发生器及光电传感器对发射状态下的恒流激光器校正得到第二功率‑电流测量值映射表。本发明先通过获得的基于斜坡发生器检测得到的第二功率‑光电传感器测量值映射表，再利用相同的斜坡发生器，相同的斜坡电流的作用，对在工作场景中的半导体激光器进行功率校正，进而避免工作场景中，光路及器件的影响，导致半导体激光器输出功率不准确问题，提供半导体激

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112670822 B (45)授权公告日 2022.06.21 (21)申请号 202011431000.9 (56)对比文件

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