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2023-06-04 发布于四川
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基片处理装置、基片处理方法和存储介质.pdf

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本发明提供高效地回收升华物并且提高热处理对象的覆膜的膜厚均匀性的基片处理装置、基片处理方法和存储介质。本发明的一个方面的热处理装置包括：对形成有覆膜的基片实施热处理的热处理单元；和控制热处理单元的控制单元。上述热处理单元包括：支承并加热基片的加热部；罩住支承于加热部的基片的腔室；具有形成有多个释放孔的释放头部的气体释放部，其从多个释放孔向该基片的表面释放气体，其中多个释放孔分散地设置在与支承于加热部的基片相对的面上；外周排气部，其从比支承于加热部的基片的周缘靠外侧的外周区域对腔室内的处理空间进行

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112687575 A (43)申请公布日 2021.04.20 (21)申请号 202011077353.3 G03F 7/16 (2006.01) (22)申请日 20

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