混合成像装置和/或用于设计磁体布置结构的方法.pdfVIP

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2023-06-04 发布于四川
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混合成像装置和/或用于设计磁体布置结构的方法.pdf

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本发明涉及一种混合成像装置和/或用于设计磁体布置结构的方法，混合成像装置可以在MPI模式和至少另一个成像模式中运行并且具有磁体布置结构，所述磁体布置结构构成用于，在MPI模式中产生具有梯度B1和在样品体积(PV)中的零场的区的磁场，其中，磁体布置结构具有包括海尔贝克偶极配置方式的两个磁环(R1、R2)的磁环对(R1/R2)，所述磁环同轴地设置在延伸通过样品体积(PV)的共同的Z轴上，磁环(R1、R2)围绕Z轴可相对彼此转动地设置。因此可以不仅生成磁场，所述磁场对应于用于MRI而且用于MPI的要求

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112684391 A (43)申请公布日 2021.04.20 (21)申请号 202011106211.5 (22)申请日 2020.10.16 (30)优先权数据 102019216

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