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本发明涉及光刻胶技术领域,公开了一种光刻胶成膜树脂及其光刻胶组合物的制备方法。本发明将衍生自含氟丙烯酸酯单体A、衍生自胆酸单体B和衍生自含脂环丙烯酸酯单体C进行共聚反应,制备光刻胶成膜树脂;该树脂制备的光刻胶不仅抗蚀刻性强,还极大的增加了吸附性和对基板的粘附性,用于193nm浸没式光刻工艺,其最佳分辨率能够达到0.13μm,且图像清晰、边缘粗糙度良好。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112679653 B
(45)授权公告日 2021.09.14
(21)申请号 202011577623.7 C08F 220/24 (2006.01)
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