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本发明公开了一种直接在硅片上原位生长制备高透明超薄的Ni‑BHTMOFs薄膜的方法。该方法具体步骤如下:将硅片放在匀胶机后,滴加配制好的硝酸镍水溶液使其铺满整片硅片的表面,然后再滴加配制好的六巯基苯氯代苯溶液在硝酸镍水溶液的上方并确保完全覆盖。静止两分钟后用吸水纸沿着硅片的一侧吸去下层的硝酸镍水溶液,然后旋转硅片,将硅片表面剩余的溶液甩飞。最后在整片硅片的表面原位形成了wifer‑size大小高透明超薄的Ni‑BHT薄膜MOFs。本发明操作简单、耗时短而且得到的薄膜面积大、表面平整且厚度很薄,
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112679745 A
(43)申请公布日 2021.04.20
(21)申请号 202011417164.6
(22)申请日 2020.12.07
(71)申请人 复旦大学
地址 20
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