一种双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法.pdfVIP

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2023-06-04 发布于四川
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一种双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法.pdf

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本发明公开了一种双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法。所述方法包括下述步骤：步骤1、上光学系统(210)投射光线，在标定相机(413)中形成第一标定图形(601)，确定第一标定图形(601)在标定相机(413)成像的图像中的像素坐标(X1、Y1)；步骤2、下光学系统(310)投射光线，在标定相机(413)中形成第二标定图形(602)，确定第二标定图形(602)的像素坐标(X2、Y2)；步骤3、基于第一标定图形(601)的像素坐标(X1、Y1)、第二标定图形(602)的像素坐标(X2、Y2)，

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112684679 A (43)申请公布日 2021.04.20 (21)申请号 202011611068.5 (22)申请日 2020.12.30 (71)申请人中山新诺科技股份有限公司

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