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本发明公开一种化学机械研磨方法及其分析系统,所述方法至少包括以下步骤:提供一目标晶圆;建立研磨垫整流器的速率修正模型;根据所述修正模型,获得实时调整的研磨垫对所述目标晶圆上不同区域的当前研磨速率。本发明有利于提高晶圆研磨的稳定性和平坦化能力。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112658971 B
(45)授权公告日 2021.06.22
(21)申请号 202110281539.9 (56)对比文件
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