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2023-06-04 发布于四川
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米粒残缺程度现场分析系统及方法.pdf

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本发明涉及一种米粒残缺程度现场分析系统，包括：残缺判断设备，用于将残缺程度超限的米粒颗粒作为残缺米粒，将残缺程度未超限的米粒颗粒作为非残缺米粒；外形分析机构，用于基于米粒基准图案对每一个米粒子图像执行外形比对，以判断每一个米粒子图像对应的米粒颗粒的残缺程度；信息汇总设备，用于统计所述多个米粒颗粒中残缺米粒总数占据所述多个米粒颗粒总数的百分比。本发明还涉及一种米粒残缺程度现场分析方法。本发明的米粒残缺程度现场分析系统及方法设计紧凑、运行智能。由于能够对残缺米粒和非残缺米粒进行有效辨别，并将残缺米粒

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112683922 A (43)申请公布日 2021.04.20 (21)申请号 202011413645.X (22)申请日 2020.12.07 (71)申请人泰州可以信息科技有限公司

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