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2023-06-04 发布于四川
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本发明涉及一种光刻方法。本发明提供携带集成电路图案信息的激光束，使激光束穿过投影物镜后投射在具有多个曝光靶区的衬底上，激光束投射的目标区域为投影区；提供折射率大于空气的浸没液体，完全填充投影物镜与衬底之间的激光束经过的空间，形成浸没流场，浸没流场具有流场边界。本发明使浸没流场与尾迹中可能存在的残留液滴接触并融合，实现对尾迹中残留液滴的清扫和消除，从而降低残留液滴对衬底的污染风险，同时允许在曝光过程中使用更高的最大扫描速度，甚至可以采用高于弯液面破裂临界速度的最大扫描速度；有利于提高光刻机的产率和

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112684667 A (43)申请公布日 2021.04.20 (21)申请号 202011563660.2 (22)申请日 2020.12.25 (71)申请人浙江启尔机电技术有限公司

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