用于氮化硅层的蚀刻组合物及使用其蚀刻氮化硅层的方法.pdfVIP

用于氮化硅层的蚀刻组合物及使用其蚀刻氮化硅层的方法.pdf

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本文公开一种用于氮化硅层的蚀刻组合物及使用其蚀刻氮化硅层的方法。用于氮化硅层的蚀刻组合物包含：无机酸或其盐；溶剂；选自酸改性二氧化硅及酸改性硅酸的群组中的至少一者；及含有四个或更多个氮原子的环状化合物。本发明当在高温下用于蚀刻时可显著增加氮化硅层对氧化硅层的蚀刻选择性。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112680228 B (45)授权公告日 2022.04.19 (21)申请号 202011107899.9 (51)Int.Cl.

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